為了保持氧化溝內具有污泥不沉積的流速,減少能量損失,需設置導流板和導流墻。

一般在氧化溝轉折處設置導流墻,使水流平穩(wěn)轉彎并維持一定流速。由于氧化溝中分隔內側溝的弧度半徑變化較快,其阻力系數(shù)也較高,為了平衡各分隔彎道間的流量,導流板可在彎道內偏置。導流墻應設于偏向彎道的內側,以使較多的水流向內匯集,避免彎道出口靠中心隔墻一側流速過低,造成回水,引起污泥下沉。設置導流墻則有利于水流平穩(wěn)轉彎,減少回水產生。

另外,距轉刷之后一定距離內,在水面以下也要設置導流板,使水流在橫斷面內分布均勻,增加水下流速。通常在曝氣轉刷上、下游設置導流板,使表面較高流速轉入池底,提高傳氧速率。上游導流板高0.6m,垂直安裝于曝氣轉刷上游2-5m處。下游導流板通常設置于曝氣轉刷下游2~2.6m處,與水平呈60°角傾斜放置,頂部在水面下150mm。其目的是使剛剛經過充氧,并受到曝氣轉刷推動的表面高速水流轉向下部,改善溶解氧濃度和流速在垂直方向上的分布,促進中上層水流和下層水流的垂直混合,從而降低溝內表面和底部的流速差。為了保持溝內的流速,有時還需要設置水下推進器。

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